電極推進對硅碳棒窯爐壽命的影響
在全氧燃燒電助熔硅碳棒窯爐中,通過氧化錫電極加熱來熔化原料,而高溫玻璃液又會造成氧化錫電極的侵蝕。如圖1所示,隨著氧化錫電極的侵蝕,電極間的間距L逐步增加,造成耗電量增加,會加劇氧化錫電極的侵蝕速度。為減緩電極侵蝕速度,確保硅碳棒窯爐內(nèi)部電場穩(wěn)定,需對電極進行推進補正。氧化錫電極總推進長度(L,-Ln)為其中:H為硅碳棒窯爐中玻璃液月拉引量,為硅碳棒窯爐中氧化錫的流出量,為硅碳棒窯爐中氧化錫的引人量,為硅碳棒窯爐中氧化錫的揮發(fā)量,為氧化錫電極的密度,為氧化錫電極插人硅碳棒窯爐的截面積。
由于氧化錫電極的侵蝕速度受電極表面電流密度和溫度的影響,且硅碳棒窯爐從投料口至硅碳棒窯爐出口的溫度并不一致,因此在硅碳棒窯爐內(nèi)部每個區(qū)域需要補正的電極長度也不相同。結合生產(chǎn)實際,在基板玻璃硅碳棒窯爐拆解后對各區(qū)域電極稱重后,計算各對電極侵蝕速度如圖2所示。投料口端溫度低,玻璃液對流強度低,侵蝕速率最小。因此在后期硅碳棒窯爐冷修時,通過逐步提升內(nèi)部的電極長度,延長硅碳棒窯爐的運行壽命。
液晶基板玻璃生產(chǎn)過程中,喉管膨脹和鉑金通道各法蘭連接處材料的揮發(fā)對硅碳棒窯爐通道壽命影響較大。
玻璃硅碳棒窯爐電極的選型,其耐熱性、化學穩(wěn)定性、機械強度、導電性能和熱傳導性能是評估電極材料性能的關鍵因素。合適的電極材料能夠延長硅碳棒窯爐的使用壽命,提高生產(chǎn)效率,并減少維護和更換的成本。
液晶基板玻璃硅碳棒窯爐氧化錫電極受侵蝕后,通常采用推進的方式進行減少電極磚間距,穩(wěn)定熔制溫度及溫度梯度來穩(wěn)定硅碳棒窯爐工藝,因此在后期硅碳棒窯爐冷修時,通過逐步提升內(nèi)部的電極長度,可延長硅碳棒窯爐的運行壽命。http://www.yagpc.com/
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